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你不可不知關(guān)于VCSEL的幾個(gè)基本原理

發(fā)布日期:2017-10-09 作者:admin 點(diǎn)擊:

       在介紹VCSEL技術(shù)之前,這幾個(gè)基本原理與名詞你不可不知,知道了這些基本知識(shí),關(guān)于VCSEL的技術(shù)原理就非常簡(jiǎn)單了。

光的反射折射與折射率:

       我們小時(shí)候都有做過(guò)光的反射與折射實(shí)驗(yàn),尤其是筷子在水里面感覺(jué)好像被折了一段一樣原因就是光的折射,折射率越大,偏折越厲害,原因是光在介質(zhì)的速度變慢了,介質(zhì)的折射率大小,與光在介質(zhì)中的速度成反比,光在介質(zhì)中的速度(v)愈大,則介質(zhì)的折射率(n)愈??;光在介質(zhì)中的速度(v)愈小,則介質(zhì)的折射率(n)愈大。
實(shí)驗(yàn)證實(shí)光在介質(zhì)中的速度(v)依次為:v(氣體)>v(液體)>v(單晶固體)>v(非晶固體)。所以光在介質(zhì)的折射率(n)依次為:n(氣體)<n(液體)<n(單晶固體)<n(非晶固體)。

DBR(Distributed Bragg Reflector)分布布拉格反光鏡

沿著光前進(jìn)的方向上設(shè)計(jì)出特別的不同折射率材料交替的膜層,膜層厚度是該材料四分之一發(fā)光波長(zhǎng)厚度(λ/4n, λ是純光波長(zhǎng),n是該材料的折射率),形成折射率大(n大)、折射率小(n小)、折射率大(n大)、折射率小(n小)…的周期性結(jié)構(gòu),如圖二(a)所示,稱(chēng)為「DBR光柵(Grating)」。光波在光柵中前進(jìn)的時(shí)候,遇到折射率大的介質(zhì)時(shí),光的速度變慢;遇到折射率小的介質(zhì)時(shí),光的速度變快,光波在不同折射率之間的接口都會(huì)發(fā)生反射與折射,科學(xué)家經(jīng)過(guò)復(fù)雜的光學(xué)計(jì)算發(fā)現(xiàn),DBR光柵可以使「不純的入射光(波長(zhǎng)范圍較大)」變成「較純的反射光或穿透光(波長(zhǎng)范圍較小)」,如圖一(b)所示,換句話(huà)說(shuō),DBR光柵的主要功能就是「使光變純(波長(zhǎng)范圍變小)與控制光的反射與穿透比率」,激光二極管(LD)的光很純,發(fā)光二極管(LED)的光不純,顯然激光二極管內(nèi)一定有DBR光柵的結(jié)構(gòu),當(dāng)然LED為了增加亮度,也有在研磨拋光藍(lán)寶石背面之后鍍上DBR反射層,可以增加2~3%的亮度。 
                                                                       圖一 分布布拉格反射鏡DRR原理示意圖
>>激光的諧振效應(yīng)(Resonance):

       激光的發(fā)光區(qū)就是它的「諧振腔(Cavity)」,諧振腔其實(shí)可以使用一對(duì)鏡子組成,如圖二所示,使光束在左右兩片鏡子之間來(lái)回反射,不停地通過(guò)發(fā)光區(qū)吸收光能,最后產(chǎn)生諧振效應(yīng),使光的能量放大,一般激光二極管的兩片鏡子就是用DBR鍍膜來(lái)控制諧振腔的諧振效應(yīng)。

>>激光二極管的電激發(fā)光(EL:Electroluminescence):

       我們以「砷化鎵激光二極管(GaAs laser diode)」為例,先在砷化鎵激光二極管芯片(大約只有一粒砂子的大小)上下各蒸鍍一層金屬電極,對(duì)著芯片施加電壓,當(dāng)芯片吸收電能產(chǎn)生「能量激發(fā)(Pumping)」,則會(huì)發(fā)出某一種波長(zhǎng)(顏色)的光。發(fā)射出來(lái)的光經(jīng)由左右兩個(gè)反射鏡來(lái)回反射產(chǎn)生「諧振放大(Resonance)」,由于右方的反射鏡設(shè)計(jì)可以穿透一部分的光,所以高能量的激光光束就會(huì)由右方穿透射出,如圖二所示。

                                                                  圖三 激光二級(jí)管發(fā)射激光的原理示意圖

VCSEL制程到底難嗎?

除了上面的基本知識(shí),這些與LED技術(shù)相似的制程術(shù)語(yǔ)你也必須知道,我在此不再多解釋?zhuān)麄兪荕OCVD(有機(jī)氣相外延沉積)與MBE(分子束外延)外延技術(shù),光刻技術(shù)決定芯片圖形與尺寸,ICP-RIE(電感耦合反應(yīng)離子刻蝕)技術(shù)刻蝕出發(fā)光平臺(tái)(Mesa),氧化制程讓諧振腔定義出最佳的VCSEL光電特性,鈍化絕緣制程讓暴露的半導(dǎo)體材料不受空氣與水汽影響可靠度,最后研磨與切割變成一顆顆芯片,再進(jìn)行測(cè)試與出貨給封裝廠,由于結(jié)構(gòu)上跟紅黃LED芯片類(lèi)似,是上下電極垂直結(jié)構(gòu),所以一般是先測(cè)試芯片特性再進(jìn)行切割與最后分選。圖三就是VCSEL的芯片與封裝示意圖,做LED的人有沒(méi)有似曾相識(shí)的感覺(jué)呢?
目前主流的VCSEL是To-can封裝與陣列封裝,尤其在高功率傳感系統(tǒng)(車(chē)用市場(chǎng))里面需要用到倒裝flip chip的陣列封裝。

 
                                                                                      圖三 VCSEL的芯片與封裝示意圖